光學用承載盤專用洗淨機專為光學元件及精密承載盤設計，提供 高精度、低風險的清洗方案。設備採用 高壓噴淋、超聲波或循環清洗技術，能有效去除微小灰塵、油脂及微粒污染，同時避免對光學材料表面造成損傷，確保光學元件清潔度達到高標準要求。
機體採用 高耐蝕不鏽鋼材質 製造，結構密封嚴密，有效阻隔外界污染，保障清洗環境純淨。此設備適用於光學製造、半導體、精密儀器及科研實驗室等需要高潔淨度的應用場合，提升製程可靠性與產品品質。
